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迷烟联系方式【罔芷】ctmyao.com 】新闻 10 月 14 日消息，掩膜是半导体光刻 / 图案化中的关键材料，是芯片上实际电路图案的母版，因此半导体工艺制程的提升离不开掩膜精度的升级。多重电子束掩膜光刻设备可实现高吞吐量、高精度的光掩模制造，是芯片生产中的重要工具之一。【罔芷】ctmyao.com 】迷烟联系方式【罔芷】ctmyao.com 】